非平衡磁控溅射中调制磁场的作用

• 作者: 关秉羽 宋林峰 李国卿 牟宗信
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 非平衡磁控溅射 薄膜 等离子体
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 真空镀膜专辑
• 页码范围: 27-29
• 页数: 3页
• 分类号: TL65+6|TB43
• 字数: 1403字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2002.03.007

摘要

研究了调制磁场对于非平衡磁控溅射系统的作用,调制磁场可以使非平衡磁控溅射形成具有较高等离子体密度的等离子体束流,延伸到靶前110 mm以上.在靶前60～110 mm的位置上,收集电流密度高达9～10 mA/cm2,收集的电流密度比常规的磁控溅射方法高9倍以上,在调制磁场作用下磁控溅射沉积铜薄膜的沉积速率可以增加到14倍.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李国卿	大连理工大学三束材料表面改性国家重点实验室	58	411	12.0	16.0
2	牟宗信	大连理工大学三束材料表面改性国家重点实验室	38	217	10.0	12.0
3	关秉羽		4	27	3.0	4.0
4	宋林峰	大连理工大学三束材料表面改性国家重点实验室	1	13	1.0	1.0