聚吡咯膜对汞离子富集作用的研究

• 作者: 沙兆林
• 来源期刊: 南通工学院学报(自然科学版)
• 学科: 工学
• 关键词: 聚吡咯 化学修饰电极 汞离子
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 页码范围: 17-19
• 页数: 3页
• 分类号: TQ150.1
• 字数: 1487字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2340.2002.02.005

摘要

文章研究了聚吡咯膜对汞离子的配位富集作用,并用循环伏安法加以证实.在0.1～10mg@L-1的汞离子浓度范围内,汞离子浓度与还原电流成线性关系.该方法可用于废水中汞离子含量的检测.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沙兆林	南通工学院化工系	15	102	5.0	10.0