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用升华法释放表面硅工艺中的悬浮结构
用升华法释放表面硅工艺中的悬浮结构
作者:
吴琳
徐嘉佳
武国英
郝一龙
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
表面工艺
升华法
粘附
摘要:
介绍了在谐振器结构释放后的干燥过程中,采用的一种有效的、防粘附的方法--升华法.在升华法的基础上,开发了充分置换升华法,对若干种释放方法进行实验、比较,确定了充分置换法的更优性;并找出了影响分离长度的因素,为提高结构释放产品率奠定了基础.
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文献信息
篇名
用升华法释放表面硅工艺中的悬浮结构
来源期刊
微纳电子技术
学科
工学
关键词
表面工艺
升华法
粘附
年,卷(期)
2002,(9)
所属期刊栏目
MEMS器件与技术
研究方向
页码范围
22-27
页数
6页
分类号
TN305.7
字数
4128字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1671-4776.2002.09.006
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
郝一龙
北京大学微电子所
46
716
15.0
25.0
2
武国英
北京大学微电子所
13
274
6.0
13.0
3
徐嘉佳
北京大学微电子所
2
35
2.0
2.0
4
吴琳
北京大学微电子所
7
6
1.0
2.0
传播情况
被引次数趋势
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引文网络
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(0)
共引文献
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(1)
节点文献
引证文献
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(1)
二级引证文献
(3)
1992(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2002(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
2005(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2006(2)
引证文献(2)
二级引证文献(0)
2007(2)
引证文献(1)
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2009(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2010(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
2019(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
表面工艺
升华法
粘附
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微纳电子技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1671-4776
CN:
13-1314/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄市179信箱46分箱
邮发代号:
18-60
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
3266
总下载数(次)
22
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