金属的电化学微区刻蚀方法

• 作者: 刘柱方 孙建军 毛秉伟 田中群 蒋利民 黄海苟
• 来源期刊: 电化学
• 学科: 化学
• 关键词: 金属 刻蚀 电化学刻蚀 约束刻蚀剂层技术 微加工
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 所属期刊栏目: 第11次全国电化学会议论文选辑
• 页码范围: 139-147
• 页数: 9页
• 分类号: O646
• 字数: 4172字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-3471.2002.02.003

摘要

本文概述了现行的金属微区刻蚀方法并详细地介绍几种电化学刻蚀方法,比较了掩膜法、扫描电化学显微镜法、约束刻蚀剂层法、电化学扫描遂道显微镜法和超短电位脉冲法各自的特点.从加工精度(能否进行微米和纳米级加工)、加工效率(工序复杂程度,能否批量制造或复制)、可用范围(主要是能否加工复杂三维立体结构)等各项因素进行了综合分析,结果表明,各种加工方法各有其优缺点,从总的效果来看,约束刻蚀剂层技术在微加工方面具有较大优势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙建军	厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室	3	58	3.0	3.0