TaN/NbN纳米多层膜的力学性能与耐磨性

• 作者: 吴桢干 李戈扬 虞晓江 许俊华 顾明元
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: TaN/NbN纳米多层膜 超硬效应 耐磨性 微结构
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 1-4
• 页数: 4页
• 分类号: O484.5
• 字数: 2552字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2002.01.001

摘要

采用反应溅射在多靶溅射仪上制备了调制周期小于73.2 nm的一系列TaN/NbN纳米多层膜和TaN,NbN单层薄膜,并采用透射电子显微镜、显微硬度计和凹坑研磨仪研究了薄膜的微结构、力学性能和耐磨性.结果表明,具有成分周期变化的TaN/NbN纳米多层膜在其调制周期为2.3～17.0 nm范围内产生硬度异常升高的超硬效应,最高硬度达到HK 51.0 GPa;磨损实验表明,TaN/NbN纳米多层膜耐磨性远高于TaN和NbN单层膜,其主要原因是调制结构中大量界面的存在,提高了薄膜的韧性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴桢干	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	14	217	9.0	14.0
2	顾明元	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	82	1649	22.0	37.0
3	李戈扬	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	109	1036	18.0	25.0
5	许俊华	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	12	160	7.0	12.0
6	虞晓江	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	10	139	7.0	10.0