X射线照射对EL-4细胞内NF-κB的DNA结合活性的影响

• 作者: 何淑杰 刘树铮 金顺子
• 来源期刊: 辐射防护
• 关键词: X射线 转录因子NF-κB IκBα EL-4细胞
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 页码范围: 20-25
• 页数: 6页
• 分类号: R14
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-8187.2002.01.004

摘要

通过电泳移动变化分析(EMSA)及免疫组织化学(IHC)的方法分别检测了2 Gy和0.075 Gy X射线照射的EL-4细胞内转录因子NF-κB的DNA结合活性的时程变化和p65亚基胞浆胞核分布情况及NF-κB抑制因子IκBα水平的时程变化.结果表明, 2 Gy和0.075 Gy X射线照射均可诱导NF-κB p50/p50和p50/p65的DNA结合活性增强,但两种二聚体在两种剂量照射后的结合活性比值不同.0.075 Gy照射诱导p50/p65活性增强为主,2 Gy照射诱导p50/p50活性增强为主.2 Gy和0.075 Gy均诱导p65核转位增多和IκBα的先降解后表达增多,但程度不同.提示不同剂量照射引起的转录调节变化不同,因此引起不同的细胞效应.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘树铮	吉林大学白求恩医学部卫生部放射生物重点实验室	47	243	9.0	13.0
2	何淑杰	吉林大学白求恩医学部卫生部放射生物重点实验室	2	10	2.0	2.0
3	金顺子	吉林大学白求恩医学部卫生部放射生物重点实验室	43	114	5.0	8.0