深亚微米工艺用二次纯水系统

• 作者: 华卫群 孙勇山 王铁坤
• 来源期刊: 电子与封装
• 学科: 工学
• 关键词: 深亚微米 一次纯水 二次纯水
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 所属期刊栏目: 支撑技术
• 页码范围: 38-44
• 页数: 7页
• 分类号: TN305.97
• 字数: 4377字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1681-1070.2002.02.010

摘要

本文介绍了深亚微米工艺用二次超纯水系统主要工艺流程及其各部分的作用.比较了一次纯水电阻率,二次纯水电阻率及二次纯水TOC含量的相互关系.讨论了半导体集成电路制造工艺对超纯水的水质要求以及水中杂质对半导体工艺的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王铁坤		3	3	1.0	1.0
2	华卫群		2	2	1.0	1.0
3	孙勇山		1	1	1.0	1.0