SiO2气凝胶薄膜常压制备与强化研究

• 作者: 吴广明 周斌 张勤远 沈军 王珏 邓忠生 鲁鸿雁
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: SiO2气凝胶薄膜,溶胶-凝胶技术,纳米多孔结构PACC:4278H,8115,6160
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 所属期刊栏目: 唯象论的经典领域
• 页码范围: 104-110
• 页数: 7页
• 分类号: O4
• 字数: 4732字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2002.01.018

摘要

采用溶胶-凝胶技术,结合碱性催化和低表面张力溶剂交换以及非活性CH3基团置换修饰,在常压条件下成功地制备了孔隙率为77%、折射率为1.12纳米多孔SiO2气凝胶薄膜. 采用氨和水蒸气混合气体热处理技术提高薄膜的耐磨性、附着力等力学特性. 使用透射电镜(TEM)、扫描电镜(SEM)分别观察了溶胶的颗粒结构和薄膜表面形貌. 应用傅里叶转换红外光谱仪(FTIR)研究了薄膜经表面基团修饰前后的红外吸收光谱以及后处理对薄膜红外ω4(TO3)吸收峰位置和半宽度的影响. 采用椭偏仪测量薄膜的厚度和折射率. 耐摩擦和附着力测试表明:混合气体热处理显著地增强了SiO2气凝胶薄膜纳米结构. 薄膜结构增强归因于混合气体热处理产生的SiO2颗粒间更多的Si-O-Si键连接.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周斌	同济大学波耳固体物理研究所	140	1582	22.0	31.0
2	沈军	同济大学波耳固体物理研究所	199	2285	26.0	36.0
3	王珏	同济大学波耳固体物理研究所	79	1255	22.0	32.0
4	吴广明	同济大学波耳固体物理研究所	118	1607	22.0	32.0
5	邓忠生	同济大学波耳固体物理研究所	18	442	12.0	18.0
6	鲁鸿雁	同济大学波耳固体物理研究所	10	145	6.0	10.0
7	张勤远	同济大学波耳固体物理研究所	9	90	5.0	9.0