金属铀与铝薄膜界面的俄歇电子能谱研究

• 作者: 吕学超 张永彬 汪小琳 鲜晓斌
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 铀 铝薄膜 循环氩离子轰击镀 俄歇电子能谱
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 四川省核学会放射化学与化工核燃料与材料专委会2001年学术交流会论文选
• 页码范围: 202-204
• 页数: 3页
• 分类号: O657.62
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.2002.03.003

摘要

以磁控溅射沉积方法,采用循环氩离子轰击镀和未循环轰击镀工艺在金属铀上制备了铝薄膜.俄歇电子能谱分析结果表明:循环氩离子轰击镀获得的铝薄膜和铀基体的界面扩散比未循环轰击镀的显著增强,且界面发生化学反应,生成了UAl3和Al2O3相.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	鲜晓斌		47	280	10.0	12.0
2	汪小琳		82	376	11.0	13.0
3	吕学超		29	121	6.0	9.0
4	张永彬		10	65	5.0	8.0