直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜过程中热处理温度对薄膜性能的影响

• 作者: 刘保顺 赵修建 黄代勇
• 来源期刊: 陶瓷科学与艺术
• 学科: 工学
• 关键词: TiO2薄膜 磁控溅射 光催化 溅射气压
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 工艺与实践
• 页码范围: 11-12
• 页数: 2页
• 分类号: TQ17
• 字数: 1319字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-7643.2002.03.004

摘要

采用直流反应磁控溅射法在玻璃基片上制备了TiO2薄膜.靶材为纯度99.9%的钛肥,溅射时基片不加热.XRD结果显示,所得TiO2薄膜的晶型为锐钛矿相:SEM结果显示,随着热处理温度的增加TiO2薄膜晶粒尺寸增大;光催化性能显示,经过500℃热处理1小时后的TiO2薄膜具有较好的光催化效率.