Al/Al2O3多层膜的表面和界面的分析研究

• 作者: Martin A Green 薛钰芝
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Al/Al2O3多层膜 表面分析 显微分析
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 73-76
• 页数: 4页
• 分类号: O485
• 字数: 2842字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2002.01.018

摘要

用热蒸发沉积和自然氧化及加热法制备纳米量级的Al/Al2O3薄膜和多层膜.用X射线光电子谱仪(XPS)和透射电镜(TEM)对样品进行检测.XPS实验说明自然氧化的Al2O3膜层厚在2～5 nm.Al/Al2O3薄膜及多层膜的O与Al的原子浓度比为1.43～1.85.Ar离子刻蚀的XPS实验结果(刻蚀速率为0.09 nm/s)说明:2个对层的Al/Al2O3多层膜截面样品具有周期性结构.TEM观察到了5个对层的Al/Al2O3多层膜的层状态结构,其周期为4 nm.由此说明,热蒸发及自然氧化法是制备纳米量级的Al/Al2O3多层膜的有效方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	薛钰芝		7	78	5.0	7.0
2	Martin A Green	澳大利亚新南威尔士大学光伏工程研究中心	3	27	2.0	3.0