离子束混合沉积C-SiC涂层的阻氢特性研究

• 作者: 刘耀光 杨斌 汪德志 熊器 雷家荣 黄宁康
• 来源期刊: 四川大学学报(自然科学版)
• 学科: 工学
• 关键词: C-SiC 离子束混合技术 表面形貌 阻氢性能
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 页码范围: 65-68
• 页数: 4页
• 分类号: TN304|TQ320
• 字数: 2377字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0490-6756.2002.01.014

摘要

对离子束混合技术制备的C-SiC阻氢涂层进行了SEM形貌观察,比较了在相同组分的C-SiC靶材下采用不同的Ar+离子轰击剂量,在相同的Ar+离子轰击剂量下采用不同组分的C-SiC靶材所制备涂层的表面形貌特征,并由二次离子质谱(SIMS)分析了C-SiC涂层的阻氢性能.结果表明,所制备C-SiC涂层的表面形貌与靶材组分以及Ar+离子轰击剂量有关,不同的形貌特征对涂层的阻氢性能影响不同.