193 nm和308 nm准分子激光对聚合物刻蚀特性的比较

• 作者: 李铁军 楼祺洪 章琳 董景星 魏运荣 黄峰
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 准分子激光 刻蚀 聚合物
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 所属期刊栏目: 实验技术与元件
• 页码范围: 25-28
• 页数: 4页
• 分类号: TN249
• 字数: 3100字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2002.01.008

摘要

描述了两种典型准分子激光(XeCl:308 nm,30 ns和ArF:193 nm,17 ns)对三种常用聚合物PC,PI和PMMA的刻蚀实验研究.着重讨论准分子激光对聚合物的刻蚀机制,并比较了这两种激光对三种聚合物的刻蚀性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	楼祺洪	中国科学院上海光学精密机械研究所	131	1539	22.0	31.0
2	董景星	中国科学院上海光学精密机械研究所	93	890	17.0	23.0
3	魏运荣	中国科学院上海光学精密机械研究所	86	833	17.0	23.0
4	李铁军	中国科学院上海光学精密机械研究所	108	1387	21.0	30.0
5	黄峰	中国科学院上海光学精密机械研究所	36	194	7.0	12.0
6	章琳	中国科学院上海光学精密机械研究所	7	63	4.0	7.0