DWDM系统中均匀光纤光栅的设计

• 作者: 关锐雄 刘伟平 刘颂豪 廖常俊 李红 郑力明 陆尧胜
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 光纤光栅 密集波分复用 光栅参数 二次曝光
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 光通信
• 页码范围: 191-194
• 页数: 4页
• 分类号: TN929.11
• 字数: 3359字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2002.03.012

摘要

分析了用于DWDM系统均匀光纤光栅反射特性与光栅、光刻条件的关系;给出了用于DWDM系统中的光纤光栅的设计原理、方法及确定光栅参数的流程.采用高斯光束和均匀相位模版,用二次曝光技术,有效消除了均匀光纤光栅的反射谱旁瓣,所设计和刻制的光栅完全满足DWDM系统的要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陆尧胜	暨南大学信息学院	47	404	11.0	19.0
2	刘伟平	暨南大学信息学院	114	960	17.0	25.0
3	刘颂豪	华南师范大学信息光电子学院	308	3297	27.0	39.0
4	廖常俊	华南师范大学信息光电子学院	92	843	15.0	23.0
5	郑力明	暨南大学信息学院	68	779	15.0	25.0
6	李红		4	5	2.0	2.0
7	关锐雄		1	2	1.0	1.0