质子LIGA工艺的探讨

• 作者: 伊福廷 张菊芳 彭良强 徐韬光 韩勇
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 微细加工 质子束 准LIGA
• 年，卷（期）: 2002,（5）
• 所属期刊栏目: MEMS器件与技术
• 页码范围: 34-36
• 页数: 3页
• 分类号: TN405
• 字数: 1555字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2002.05.008

摘要

提出采用掩模法的质子LIGA方法,即利用厚胶光刻产生掩模,然后进行质子束深度刻蚀、显影获得微结构.根据TRIM96程序进行模拟计算,该方法可以获得深度达数毫米、深宽比为30以上的微结构.利用通常的LIGA工艺制备了质子束深度刻蚀的掩模.在高能所35MeV质子加速器上进行曝光试验,结果表明,采用PMMA光刻胶具有足够的灵敏度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	彭良强	中国科学院高能物理研究所	24	141	7.0	11.0
2	张菊芳	中国科学院高能物理研究所	21	136	6.0	11.0
3	韩勇	中国科学院高能物理研究所	67	1000	16.0	30.0
4	伊福廷	中国科学院高能物理研究所	38	150	6.0	10.0
5	徐韬光	中国科学院高能物理研究所	22	45	4.0	5.0