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摘要:
研究了新型压制钡钨阴极的发射性能,并且分别用KYKY-2800扫描电子显微镜(SEM)和美国BIR公司ACTIS工业CT微焦点系统来分析所研制的新型压制钡钨阴极的表面形貌和内部结构,并对比了传统的钡钨阴极,来说明简化覆膜浸渍钡钨阴极生产工艺的可行性.
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文献信息
篇名 新型压制钡钨阴极性能的研究
来源期刊 真空电子技术 学科 物理学
关键词 压制钡钨阴极 工业CT 扫描电子显微镜
年,卷(期) 2002,(3) 所属期刊栏目 电子陶瓷及其应用专辑
研究方向 页码范围 67-69
页数 3页 分类号 O462
字数 1851字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1002-8935.2002.03.023
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张红卫 中国科学院电子学研究所 13 67 4.0 8.0
2 丁耀根 中国科学院电子学研究所 112 1050 18.0 26.0
3 俞世吉 中国科学院电子学研究所 15 87 6.0 9.0
4 白振纲 中国科学院电子学研究所 7 30 3.0 5.0
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研究主题发展历程
节点文献
压制钡钨阴极
工业CT
扫描电子显微镜
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空电子技术
双月刊
1002-8935
11-2485/TN
大16开
北京749信箱7分箱
1959
chi
出版文献量(篇)
2372
总下载数(次)
7
总被引数(次)
8712
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