负偏压对Be上磁控溅射离子镀Al膜结构影响的研究

• 作者: 李瑞文 邹觉生 鲜晓斌
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: Be Al膜层 负偏压 形貌 织构
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 真空镀膜专辑
• 页码范围: 30-32
• 页数: 3页
• 分类号: TG17|TL34|TB43
• 字数: 1728字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2002.03.008

摘要

以Be为基体，采用磁控溅射离子镀在其上镀制Al膜，研究了负偏压对Al膜微结构的影响；研究表明，不加基体负偏压，Al膜在（111）面择优生长；随着基体负偏压升高Al膜在（111）面择优生长趋势减弱，Al膜在（200）面生长趋势加强；当基体负偏压超过150 V后，Al膜在（111）面择优生长的趋势又得到加强。晶粒在低负偏压时随负偏压增加而细化，当较高的负偏压引起基体温度升高时，此时晶粒又变大了。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邹觉生		36	278	10.0	13.0
2	鲜晓斌		47	280	10.0	12.0
3	李瑞文		12	28	3.0	5.0