脉冲真空电弧离子镀沉积速率的研究

• 作者: 严一心 弥谦 徐均琪 杭凌侠 王季梅 蔡长龙
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲电弧 沉积速率 类金刚石薄膜
• 年，卷（期）: 2002,（6）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 27-29
• 页数: 3页
• 分类号: TQ153
• 字数: 2654字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2002.06.009

摘要

薄膜沉积速率是影响薄膜性能的重要参数,研究它对于沉积优良的类金刚石薄膜具有重要的作用.针对脉冲真空电弧离子镀的具体工艺参数,研究了各种工艺参数对类金刚石薄膜沉积速率的影响,找出了影响类金刚石薄膜沉积速率的主要参数,得到了各种工艺参数下类金刚石薄膜沉积速率的曲线.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	弥谦	西安工业学院光电科学与工程系	60	260	9.0	14.0
2	徐均琪	西安工业学院光电科学与工程系	87	611	13.0	20.0
3	杭凌侠	西安工业学院光电科学与工程系	93	777	15.0	22.0
4	严一心	西安工业学院光电科学与工程系	43	232	9.0	12.0
5	王季梅	西安交通大学电气工程学院	103	845	16.0	25.0
6	蔡长龙	西安交通大学电气工程学院	6	40	3.0	6.0