电化学沉积制备羟基磷灰石涂层及机理研究

• 作者: 林昌健 胡仁 胡皓冰 郭明 陈菲
• 来源期刊: 电化学
• 学科: 工学
• 关键词: 羟基磷灰石 电化学沉积 涂层 机理
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 第11次全国电化学会议论文选辑（Ⅱ）
• 页码范围: 288-294
• 页数: 7页
• 分类号: TQ153
• 字数: 3245字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-3471.2002.03.008

摘要

控制电沉积溶液中钙/磷离子的浓度,在钛合金表面直接沉积羟基磷灰石(HAP)陶瓷涂层.XRD、SEM实验证实,制备的HAP晶粒完整,粒度均匀.热力学计算表明HAP比TCP更易于生成.文中讨论了羟基磷灰石(HAP)涂层电沉积的机理,指出电沉积是一个二步过程,HAP的形成是从溶液中离子到固体的直接过程,没有前驱体的生成.