胶束增敏荧光光度法测定土霉素的研究

• 作者: 张社争 曹岁平 李烽 马红燕
• 来源期刊: 分析试验室
• 学科: 化学
• 关键词: 土霉素 表面活性剂 酸性降解 荧光法
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 43-45
• 页数: 3页
• 分类号: O657.32
• 字数: 1923字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0720.2002.04.014

摘要

提出了表面活性剂增敏的酸性降解荧光法测定土霉素的新方法.土霉素与浓 H2SO4 反应,生成强荧光降解物一脱水土霉素,在 pH 10.0 的 NH3-NH4Cl 缓冲溶液中,CTMAB的存在对脱水土霉素的荧光有较强的增敏和增稳作用,土霉素含量在 1.21×10-8 mol/L～4.83×10-6 mol/L 范围内与荧光强度成正比,方法的检出限为 6.66×10-9 mol/L.应用本法测定片剂中的土霉素,平均回收率为99.6%(n=5).