表面带C=C端基活性膜SiO2复合体的研究

• 作者: 朱新生 李敏 闻荻江
• 来源期刊: 武汉化工学院学报
• 学科: 化学
• 关键词: 多孔SiO2 甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷 表面活性膜 合成技术
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 页码范围: 37-39
• 页数: 3页
• 分类号: O647.11|TQ620.1
• 字数: 2129字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-2869.2002.03.011

摘要

利用甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷合成了带C=C端基的活性膜/SiO2复合体,探讨了其表面结构.XPS表征表明,SiO2表面的有机硅烷牢固结合,扫描电镜表征了硅烷化后SiO2表面的膜结构,并且保留了其多孔特征.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	闻荻江	苏州大学材料工程学院	113	1183	19.0	29.0
2	朱新生	苏州大学材料工程学院	82	535	11.0	20.0
3	李敏	苏州大学材料工程学院	78	462	10.0	19.0