IAD技术在钼酸铅晶体表面镀膜中的应用

• 作者: 周团团 孙嵩泉 李万福 胡焕林
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 离子束辅助沉积(IAD) 钼酸铅晶体 红外增透膜
• 年，卷（期）: 2002,（5）
• 所属期刊栏目: 专家聚焦
• 页码范围: 24-26
• 页数: 3页
• 分类号: TB43
• 字数: 2075字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2002.05.004

摘要

讨论了离子束辅助沉积技术在真空沉积过程中的应用原理.通过与常规的热蒸发工艺镀制的膜层相比较,证实了离子束辅助沉积技术有助于提高钼酸铅晶体表面红外增透膜的膜层品质及中心波长位置的精确度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周团团	合肥工业大学机械与汽车工程学院	4	7	1.0	2.0
2	胡焕林	合肥工业大学机械与汽车工程学院	14	79	6.0	8.0
3	孙嵩泉		3	7	1.0	2.0
4	李万福		1	1	1.0	1.0