偏压磁控溅射法在柔性衬底上制备ZnO:Al透明导电膜

• 作者: 杨田林 韩盛浩 高绪团
• 来源期刊: 曲阜师范大学学报(自然科学版)
• 学科: 工学
• 关键词: 光电性质 AZO薄膜 偏压溅射
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 页码范围: 59-63
• 页数: 5页
• 分类号: TN305
• 字数: 3012字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5337.2002.04.015

摘要

用射频偏压磁控溅射法,在水冷透明聚脂胶片上制备出了附着力强的ZnO:Al(Aluminium dopedZinc Oxide,AZO)透明导电膜,膜的最小电阻率为1.11×10-3Ωcm,薄膜的透过率高于85%.薄膜为多晶纤锌矿结构,垂直于衬底的C轴具有[002]方向的择优取向.重点探讨了薄膜的结构、光电性质与衬底所加负偏压的关系。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨田林	山东理工大学物理系	8	75	6.0	8.0
2	高绪团	山东理工大学物理系	8	96	6.0	8.0
3	韩盛浩	山东大学物理与微电子学院	2	19	1.0	2.0