硅基氧化物薄膜的结构及光吸收特性的研究

• 作者: 俞跃辉 叶春暖 吴雪梅 姚伟国 宁兆元 汤乃云 董业民 诸葛兰剑
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 结构 光吸收
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 209-211
• 页数: 3页
• 分类号: O472.3
• 字数: 2779字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2002.02.033

摘要

采用射频磁控共溅射方法制备了纳米Ge颗粒尺寸的Ge-SiO2薄膜、非晶Si-SiO2薄膜和非晶AlSiO复合薄膜,分析了样品的结构,研究发现3类样品均存在较强的光吸收,对于Ge-SiO2薄膜观察到光吸收边随Ge颗粒尺寸变小而蓝移的现象,这主要是由于Ge颗粒的量子限域效应所引起的.而对于非晶样品也出现了光吸收边蓝移和能隙展宽的现象,这可能是由于样品中的杂质或缺陷等受到限域作用的结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	俞跃辉	中国科学院上海冶金所离子束开放实验室	20	55	5.0	6.0
2	宁兆元	苏州大学物理系	70	528	12.0	18.0
3	吴雪梅	苏州大学物理系	72	331	9.0	13.0
4	诸葛兰剑	苏州大学物理系	59	199	8.0	11.0
5	汤乃云	苏州大学物理系	10	38	4.0	5.0
6	叶春暖	苏州大学物理系	11	54	4.0	6.0
7	姚伟国	苏州大学物理系	21	66	4.0	6.0
8	董业民	中国科学院上海冶金所离子束开放实验室	10	15	2.0	3.0