激光致溅射沉积Ge2Sb2Te5薄膜的结晶行为研究

• 作者: 刘波 干福熹 阮昊
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Ge2Sb2Te5 激光致相变 X射线衍射 面心立方
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 简报
• 页码范围: 637-640
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2056字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2002.03.043

摘要

利用XRD研究了激光致溅射沉积Ge2Sb2Te5薄膜的结晶行为,研究发现,与热致相变不同的是,激光致相变只发生从非晶态到FCC晶态结构的转变,从FCC到HCP的结构转变不再发生,这有利于提高相变光盘的信噪比.Ge2Sb2Te5薄膜的结晶程度受初始化功率和转速的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	干福熹	中国科学院上海光学精密机械研究所	288	2527	23.0	29.0
2	刘波	中国科学院上海光学精密机械研究所	266	2712	24.0	39.0
3	阮昊	中国科学院上海光学精密机械研究所	40	336	7.0	17.0