新一代全方位离子注入及增强沉积工业机

• 作者: 严冰 冯铁民 王珂 穆莉兰 童洪辉 耿漫 赵军 陈庆川 霍岩峰
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 离子注入 增强沉积 等离子体源
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 48-52
• 页数: 5页
• 分类号: O53|TB43
• 字数: 3585字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2002.02.014

摘要

本文报告了核工业西南物理研究院最近研制开发的新一代全方位离子注入及增强沉积工业机.该机直径900mm，高1050mm,立式放置，抽气系统由分子泵及机械泵构成并且实现了PLC控制, 本底真空小于4×10.4Pa.气体和金属等离子体可分别由热阴极放和三个高效磁过滤式金属等离子体源产生.真空室顶部预留了法兰口并配有冷却靶台.该机的负高压脉冲幅值为10～80kV,重复频率为50～500 Hz,脉冲上升沿小于2 μs,并且可根据需要产生脉冲串.一般地等离子体密度为10 8～10 10 cm.3,膜沉积速率为 0.1～0.5 nm/s .文中亦报道了一些实验结果.