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摘要:
用真空蒸发法在玻璃和单晶硅片(100)上制备Zn薄膜,然后对Zn薄膜进行氧化、热处理获得纳米ZnO薄膜.对在硅片上制备的Zn薄膜一次性进行高温掺杂、氧化获得纳米ZnO∶P和ZnO∶B薄膜.研究不同氧化、掺杂温度和时间对薄膜结构、电学性能的影响.结果表明:氧化温度和时间对ZnO薄膜结构影响较大,液态源掺P可明显改善纳米ZnO薄膜的导电性能、结构特性和化学组分.
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关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 纳米ZnO薄膜制备及液态源掺杂
来源期刊 真空科学与技术学报 学科 物理学
关键词 真空蒸发 纳米ZnO薄膜 液态源掺杂 氧化
年,卷(期) 2002,(2) 所属期刊栏目 技术交流
研究方向 页码范围 149-152
页数 4页 分类号 O484
字数 2766字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1672-7126.2002.02.017
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李健 内蒙古大学理工学院 36 200 7.0 12.0
2 宋淑芳 内蒙古大学理工学院 5 19 4.0 4.0
3 季秉厚 内蒙古大学理工学院 10 106 5.0 10.0
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真空蒸发
纳米ZnO薄膜
液态源掺杂
氧化
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真空科学与技术学报
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1672-7126
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1981
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