徽电子学技术发展的瓶颈和出路

• 作者: 黄德欢 黄璇
• 来源期刊: 科学（上海）
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻技术 集成电路 微电子器件
• 年，卷（期）: 2002,（6）
• 所属期刊栏目: 前沿
• 页码范围: 7-10
• 页数: 4页
• 分类号: TN01
• 字数: 6060字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0368-6396.2002.06.002

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄璇		2	22	1.0	2.0