低温多晶Si TFT-LCD技术

• 作者: 张凤翙 杨庆祥
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜晶体管液晶显示 低温 受激准分子激光退火(激光再结晶) 簇射式化学汽相沉积
• 年，卷（期）: 2002,（6）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 32-35
• 页数: 4页
• 分类号: TN873+.93
• 字数: 3675字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2002.06.008

摘要

介绍了大面积低温多晶Si薄膜晶体管液晶显示技术的发展水平.最近,低温多晶Si薄膜晶体管业已取得很大进展,比如高质量多晶Si薄膜的受激准分子激光退火(激光再结晶)工艺,大面积掺杂用离子掺杂工艺,以及低温原子团簇射式化学汽相沉积工艺.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨庆祥		7	2	1.0	1.0
2	张凤翙		3	1	1.0	1.0