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摘要:
GaN基量子点的生长及其特性已成为目前Ⅲ-Ⅴ族半导体研究的热点.由于其较强的量子效应,量子点结构的光电器件有望获得比量子阱器件更优异的性能.总结了InGaN/GaN量子点的最新研究进展,从生长模式、发光特性和制造工艺三个方面对InGaN/GaN量子点做了较详细的介绍,并对其在半导体器件的具体应用前景上提出了合理的设想.
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文献信息
篇名 自组装InGaN/GaN量子点的研究进展
来源期刊 半导体光电 学科 工学
关键词 InGaN 量子点 生长模式 发光特性 制造工艺
年,卷(期) 2002,(2) 所属期刊栏目 动态综述
研究方向 页码范围 77-80
页数 4页 分类号 TN304.23
字数 2106字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-5868.2002.02.002
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 叶志镇 浙江大学硅材料国家重点实验室 155 1638 21.0 35.0
2 李嘉炜 浙江大学硅材料国家重点实验室 4 6 2.0 2.0
3 Nasser N M 浙江大学硅材料国家重点实验室 1 4 1.0 1.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
InGaN
量子点
生长模式
发光特性
制造工艺
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体光电
双月刊
1001-5868
50-1092/TN
大16开
重庆市南坪花园路14号44所内
1976
chi
出版文献量(篇)
4307
总下载数(次)
22
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