真空退火对LiF和CaF2薄膜结晶性能的影响

• 作者: 万媛 李德杰
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: LiF薄膜 CaF2薄膜 结晶性能 退火 X射线衍射
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 146-148
• 页数: 3页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2330字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2002.02.016

摘要

研究了真空退火对玻璃衬底上热蒸发沉积的LiF和CaF2薄膜的结晶性能的影响.X射线衍射分析结果表明,在420 ℃温度下,随着退火时间的增长,LiF薄膜的结晶状况明显改善;在460 ℃温度下,随着退火时间的增长,CaF2薄膜的结晶状况越来越好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李德杰	清华大学电子工程系	34	152	8.0	10.0
2	万媛	清华大学电子工程系	2	2	1.0	1.0