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摘要:
阐述美国<国家半导体技术发展路线>中存储器的发展目标对其关键材料超纯水在水质和耗量降低上的要求,以我国8英寸/0.18 μm和12英寸生产线的相关数据与其对照,表明在总有机碳、溶解氧等项水质参数已可满足该发展要求,而在SiO2、微粒限定、检测技术以及超纯水耗量降低等方面尚有差距和问题,并提出相应的解决方案,讨论了降低超纯水等项水资源消耗的途径.重申了水回收的意义,关注"功能水"和高效、省能的GDI(聚合型电去离子)装置将是有益的.
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文献信息
篇名 纳米级集成电路与超纯水
来源期刊 微纳电子技术 学科 工学
关键词 纳米级集成电路 发展路线 超纯水 水质 资源节约
年,卷(期) 2002,(9) 所属期刊栏目 专家论坛
研究方向 页码范围 1-5
页数 5页 分类号 TN305.97
字数 3310字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1671-4776.2002.09.001
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作者信息
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1 林耀泽 2 9 1.0 2.0
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