同位素铁靶制备技术

• 作者: 许国基
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 氢气还原 滚轧 聚焦束溅射
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 页码范围: 401-402,453
• 页数: 3页
• 分类号: O484.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.2002.04.030

摘要

介绍了同位素铁靶的制备技术,包括氧化铁的还原、铁粉的熔化和铁靶的制备.采用聚焦束溅射和滚轧制备技术能获得自支撑56Fe靶的最小厚度分别为50和360 μg/cm2.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许国基	中国原子能科学研究院核物理研究所	12	42	4.0	5.0