电化学法制取Cu2O产品中金属铜的来源及消除

• 作者: 刘英 崔舜 康志君 汪志勇
• 来源期刊: 过程工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化亚铜 电化学法 金属铜 K2Cr2O7 隔膜
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 所属期刊栏目: 反应与分离
• 页码范围: 32-35
• 页数: 4页
• 分类号: TF123.1
• 字数: 2101字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1009-606X.2002.01.007

摘要

为了提高电化学制取Cu2O的产品质量,本文探讨了电化学法制备的Cu2O产品中金属铜杂质的来源、产生机理和消除方法. 结果表明,金属铜来源于阴极副反应:Cu2O + H2O + 2e = 2Cu0 + 2OH-;分别采用K2Cr2O7和隔膜来减少杂质的形成,均取得了较好的效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘英		48	250	9.0	12.0
2	崔舜		69	751	15.0	23.0
3	康志君		37	497	14.0	20.0
4	汪志勇		7	98	6.0	7.0