CDT黑底制作中常见的不良分析及对策

• 作者: 何宏玉 金兴隆
• 来源期刊: 电子器件
• 学科: 工学
• 关键词: 光致抗蚀剂 黑底 荫罩 曝光
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 页码范围: 63-66
• 页数: 4页
• 分类号: TN105
• 字数: 2117字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9490.2002.01.015

摘要

高亮度高分辨小屏面CDT的黑底制作常见的不良的原因分析及应采取的对策;它有别于一般C DT黑底制作.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何宏玉	国家特种显示工程技术研究中心芜湖电真空研究所	1	0	0.0	0.0
2	金兴隆	国家特种显示工程技术研究中心芜湖电真空研究所	1	0	0.0	0.0