低发射率伪装涂料的研究现状与发展方向

• 作者: 唐卫红 张永国 朱富进 胡役芹 费逸伟
• 来源期刊: 红外技术
• 学科: 工学
• 关键词: 伪装涂料 低发射率 研究现状 发展方向
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 综述与评论
• 页码范围: 5-9
• 页数: 5页
• 分类号: TN219
• 字数: 6008字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2002.03.002

摘要

从低发射率伪装涂料研究的必要性出发,从构成低发射率涂料的各种填料、胶结剂以及涂层结构等方面对其研究现状与局限性作了介绍.并在此基础上对低发射率伪装涂料的发展方向提出了设想.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	费逸伟		24	455	12.0	21.0
2	胡役芹		4	99	3.0	4.0
3	唐卫红		10	148	4.0	10.0
4	朱富进		5	140	2.0	5.0
5	张永国		3	48	2.0	3.0