硅基陶瓷材料高温氧化理论的回顾

• 作者: 司文捷 彭志坚 林仕伟 苗赫濯
• 来源期刊: 材料科学与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 高温氧化 硅基材料 Si SiC Si3N4
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 所属期刊栏目: 热点评述
• 页码范围: 268-272
• 页数: 5页
• 分类号: TO174.1
• 字数: 2773字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2002.02.033

摘要

本文综述了硅基陶瓷材料高温氧化理论,在热动力学和整体控速过程两方面具体介绍了在高温条件下Si、SiC、Si3N4等非氧化物硅基陶瓷的氧化性质的研究进展.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	苗赫濯	清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室	69	997	20.0	27.0
2	司文捷	清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室	55	652	15.0	23.0
3	彭志坚	清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室	11	126	8.0	11.0
4	林仕伟	清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室	3	43	3.0	3.0