紫外激光刻蚀氧化锆陶瓷初步研究

• 作者: 凌磊 叶震寰 楼祺洪 董景星 魏运荣
• 来源期刊: 应用激光
• 学科: 工学
• 关键词: 准分子激光 刻蚀 氧化锆陶瓷
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 页码范围: 405-408
• 页数: 4页
• 分类号: TN24
• 字数: 3339字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-372X.2002.04.007

摘要

描述了KrF准分子激光对氧化锆陶瓷的微刻蚀实验,研究了脉冲刻蚀深度与脉冲数的关系(刻蚀速率),刻蚀的槽的形貌,并进行了刻蚀小孔的初步研究,得到直径为40μm,深度为25μm的微孔矩阵.为KrF激光对该材料的加工提供实验数据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	叶震寰	中国科学院上海光学与精密机械研究所	24	241	10.0	15.0
2	楼祺洪	中国科学院上海光学与精密机械研究所	131	1539	22.0	31.0
3	董景星	中国科学院上海光学与精密机械研究所	93	890	17.0	23.0
4	魏运荣	中国科学院上海光学与精密机械研究所	86	833	17.0	23.0
5	凌磊	中国科学院上海光学与精密机械研究所	12	166	7.0	12.0