Si衬底上ZnSe外延膜的低压MOCVD生长

• 作者: 刘益春 单崇新 吕有明 张吉英 张振中 申德振 羊亿 范希武 赵晓薇
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnSe外延膜 Si衬底 低压MOCVD
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 330-334
• 页数: 5页
• 分类号: O472
• 字数: 2166字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2002.04.002

摘要

以硒化氢(H2Se)和二甲基锌为源材料,生长温度是300℃时,用低压金属有机化学气相沉积(LP-MOCVD)系统在Si(111)衬底上外延生长了ZnSe薄膜.通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜的能量色散(EDS)以及光致发光(PL)实验验证ZnSe外延膜的质量.在X射线衍射谱中只有一个强的ZnSe(111)面衍射峰,这说明外延膜是(111)取向的单晶薄膜.在能量色散谱中除了Si,Zn和Se原子外,没有观测到其他原子,说明ZnSe外延膜中杂质含量较少.ZnSe外延膜中Zn/Se原子比接近1,有较好的化学配比.在ZnSe外延膜的77K光致发光谱中没有观测到与深中心发射相关的发光峰,表明ZnSe外延膜的晶格缺陷密度较小.77K时的近带边发射峰447nm在室温时移至465nm附近.