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摘要:
概要介绍了用粉末冶金工艺制备磁控溅射沉积TiN膜用钛靶的方法,探讨了其技术、经济可行性.结果表明,该方法制备钛靶是可行的,并可推广应用于其它钛复合靶、钛合金、钛化合物靶制备.
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内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 粉末冶金法多弧离子镀(PVD)用钛靶材的制备
来源期刊 金属学报 学科 工学
关键词 磁控溅射 钛靶 粉末冶金
年,卷(期) 2002,(z1) 所属期刊栏目 Ⅵ.其它
研究方向 页码范围 594-595
页数 2页 分类号 TG146.23
字数 1870字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0412-1961.2002.z1.188
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈平 广州有色金属研究院国家钛及稀有金属粉末冶金工程中心 14 45 3.0 6.0
2 李华 广州有色金属研究院国家钛及稀有金属粉末冶金工程中心 4 2 1.0 1.0
3 梁振锋 广州有色金属研究院国家钛及稀有金属粉末冶金工程中心 9 79 5.0 8.0
4 赵峰 广州有色金属研究院国家钛及稀有金属粉末冶金工程中心 2 2 1.0 1.0
5 苏东艺 1 0 0.0 0.0
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2002(0)
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研究主题发展历程
节点文献
磁控溅射
钛靶
粉末冶金
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
金属学报
月刊
0412-1961
21-1139/TG
大16开
沈阳文化路72号
2-361
1956
chi
出版文献量(篇)
4859
总下载数(次)
9
总被引数(次)
67470
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