插入Bi层对NiFe/Cu/NiFe/FeMn自旋阀多层膜交换耦合的影响

• 作者: 于广华 姜宏伟 朱逢吾 李明华 赖武彦
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: 层间偏聚 交换耦合场 表面活化原子Bi XPS
• 年，卷（期）: 2002,（6）
• 页码范围: 617-620
• 页数: 4页
• 分类号: TG146.1
• 字数: 3428字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0412-1961.2002.06.012

摘要

对于Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta自旋阀多层膜,Cu原子偏聚到NiFe/FeMn界面将导致自旋阀多层膜中NiFe/FeMn的交换耦合场Hex下降.然而,少量的表面活化原子Bi被沉积到Cu层和被钉扎NiFe层之间,Cu原子在NiFe/FeMn界面的偏聚可以被抑制;而且,更重要的是Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta自旋阀多层膜中的交换耦合场Hex可以被有效地提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李明华	北京科技大学材料物理系	15	87	6.0	9.0
3	于广华	北京科技大学材料物理系	88	372	9.0	14.0
6	朱逢吾	北京科技大学材料物理系	54	229	8.0	12.0
7	姜宏伟	中国科学院物理研究所	6	13	2.0	3.0
8	赖武彦	中国科学院物理研究所	23	143	7.0	11.0