光致抗蚀剂乳化废水中有机物GC/MS分析

• 作者: 倪亚明 刘亚菲 曾新平 李义久 胡耀铭 马前
• 来源期刊: 四川环境
• 学科: 化学
• 关键词: GC/MS分析 二氯甲烷 萃取 光致抗蚀剂废水
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 环境监测
• 页码范围: 48-50
• 页数: 3页
• 分类号: X832|O658
• 字数: 1321字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3644.2002.03.015

摘要

采用色谱-质谱(GC/MS)联用分析仪分析了电子工业光致抗蚀剂乳化废水中的有机化合物成份,测定了该废水中各种有机污染物的含量.分析结果表明:电子工业中光致抗蚀剂乳化废水的主要成份为有机酸类、醛类、酯类、胺类、芳香酮类、酸酐类、砜类、聚醚类、醇类、芳香烃类、杂环类十一大类有机化合物,其中聚丙二醇类、脂肪酸类、丁烯酸类、苯甲酸类、苯甲酸胺、烷基酚聚氧乙烯醚类和噻吩类约占总有机碳含量的95%以上.有机污染物的分析测定对此类废水的处理工艺的研究具有重要的指导作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘亚菲	同济大学分析测试中心	42	996	18.0	31.0
2	李义久	同济大学分析测试中心	90	1689	23.0	39.0
3	倪亚明	同济大学分析测试中心	121	1844	23.0	38.0
4	胡耀铭	复旦大学分析测试中心	23	385	11.0	19.0
5	曾新平	同济大学分析测试中心	54	416	11.0	18.0
6	马前	同济大学分析测试中心	22	646	10.0	22.0