钌基氨合成催化剂的TPD/R研究

• 作者: 刘化章 霍超 韩文锋
• 来源期刊: 高校化学工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 活性炭 表面性质 钌 氨合成催化剂:程序升温脱附/还原(TPD/R)
• 年，卷（期）: 2002,（5）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 565-569
• 页数: 5页
• 分类号: TQ426.94|TQ113.247
• 字数: 2424字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1003-9015.2002.05.017

摘要

运用程序升温脱附/还原(TPD/R)技术,研究了不同材质制备的活性炭表面性质,并与其负载的钌基氨合成催化剂活性进行关联.同时,采用H2-TPD和N2-TPD手段考察了一系列钌基催化剂;研究了助剂对H2、N2吸附的影响.研究结果表明:活性炭表面性质随材质的不同有较大的差异,导致其负载钌基催化剂活性的不同.而助剂的加入也极大地影响了H2和N2的脱附性能,特别是助剂K使催化剂的低温H2吸附量显著提高,脱附温度从288℃降低到166℃,使N2的脱附量也明显增加,且脱附温度从420℃降到385℃.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩文锋	浙江工业大学工业催化研究所	50	318	11.0	16.0
2	刘化章	浙江工业大学工业催化研究所	141	1369	21.0	30.0
3	霍超	浙江工业大学工业催化研究所	42	359	11.0	17.0