聚四氟乙烯多孔薄膜驻极体的电荷储存稳定性

• 作者: 夏钟福 张冶文 邱勋林
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 聚四氟乙烯 多孔膜 驻极体 电荷稳定性
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 389-394
• 页数: 6页
• 分类号: O4
• 字数: 3988字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2002.02.035

摘要

利用在室温和高温下的栅控恒压电晕充电,常温电晕充电后经不同温度老化处理后的表面电位衰减测量,及开路热刺激放电(Thermally Stimulated Discharge,TSD)研究了正负充电后PTFE(Polytetrafluoroethylene)多孔薄膜驻极体的电荷储存稳定性.PTFE多孔膜,PTFE非多孔膜(Teflon PTFE)和FEP(Tetrafluoroethylene-hexa-fluoropropylene Copolymer)非多孔膜(Teflon FEP)间的电荷储存稳定性的比较研究也已进行.通过等温退极化程序,对上述三种薄膜驻极体的电荷储存寿命(有效时间常数)τ进行了定量估算.结果指出:在有机驻极体材料中,对正负充电后两种极性驻极体样品的PTFE多孔薄膜驻极体均呈现最优异的电荷储存稳定性,尤其是在高温条件下.通过扫描电镜(SEM)对这种新结构的氟聚合物驻极体材料的突出电荷储存能力和结构根源也已初步讨论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张冶文	同济大学波尔固体物理研究所	77	666	15.0	23.0
2	夏钟福	同济大学波尔固体物理研究所	79	508	12.0	19.0
3	邱勋林	同济大学波尔固体物理研究所	23	139	6.0	10.0