RF-HFCVD生长高质量纳米金刚石薄膜

• 作者: 吴惠桢 石成儒 邱东江 陈奶波
• 来源期刊: 红外与毫米波学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 纳米金刚石薄膜 射频等离子体增强热丝化学气相沉积 光透过率
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 页码范围: 167-170
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2616字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9014.2002.03.002

摘要

采用射频等离子体增强的热丝化学气相沉积(RF-HFCVD)技术在石英玻璃衬底上制备了高质量的纳米金刚石薄膜.研究了衬底温度、反应气压及射频功率对金刚石膜的结晶习性和光学性质的影响,其最佳值分别为700℃、2×133Pa和200W.在该条件下金刚石成核密度达1011cm-2,经1h生长即获得连续薄膜,其平均晶粒尺寸为25nm,表面粗糙度仅为55(A),在近红外区域(800nm处)的光透过率达90%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴惠桢	浙江大学物理系	37	219	9.0	12.0
2	邱东江	浙江大学物理系	22	144	8.0	11.0
3	陈奶波	浙江大学物理系	5	44	5.0	5.0
4	石成儒	浙江大学中心实验室	6	55	5.0	6.0