软刻蚀及其应用

• 作者: 李滨耀 王喆 邢汝博 韩艳春
• 来源期刊: 化学通报
• 学科: 化学
• 关键词: 软刻蚀 微米加工 纳米加工 图案化 弹性模板
• 年，卷（期）: 2002,（9）
• 所属期刊栏目: 知识介绍
• 页码范围: 606-613
• 页数: 8页
• 分类号: O6
• 字数: 5990字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0441-3776.2002.09.009

摘要

软刻蚀是一类基于自组装和复制模塑等原理的非光刻微米和纳米加工方法.它为形成和制作微米、纳米图案提供了简便、有效、价廉的途径.在软刻蚀中,用一个表面带图案的弹性模板来实现图案的转移,其加工的分辨率可达30nm～100μm.软刻蚀是微接触印刷、复制模塑、转移微模塑、毛细微模塑、溶剂辅助微模塑等的总称.本文将简介软刻蚀的原理、方法以及它们在微米和纳米加工、微电子学、材料科学、光学、微电子机械系统、表面化学等方面的应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王喆	中国科学院长春应用化学研究所高分子物理与化学国家重点实验室	30	243	8.0	15.0
2	邢汝博	中国科学院长春应用化学研究所高分子物理与化学国家重点实验室	7	66	4.0	7.0
3	韩艳春	中国科学院长春应用化学研究所高分子物理与化学国家重点实验室	16	87	5.0	9.0
4	李滨耀	中国科学院长春应用化学研究所高分子物理与化学国家重点实验室	8	90	6.0	8.0