二元光学法在微透镜制作中的应用

• 作者: 孔令彬 易新建 陈四海
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 二元光学 微透镜 衍射效率 点扩散函数 蚀刻
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 5-7，12
• 页数: 4页
• 分类号: TN221
• 字数: 3231字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2002.02.002

摘要

对二元光学的产生和发展作了介绍,并阐述了二元光学元件之一的微透镜(microlenses)的设计、制作和测试方法以及它们的主要应用.微透镜的设计是基于已成熟的标量衍射理论;而其制作过程包括:计算机设计波面相位、产生掩模版、光刻或离子(束)蚀刻以及复制产生微透镜,其关键技术蚀刻方法有等离子蚀刻技术和反应离子蚀刻RIE(Reactive Ion Etching)技术;微透镜的测试主要包括衍射效率(diffractive efficiency)和点扩散函数(PSF)的测试,有直接法和间接法两种测试方法.微透镜可以微型化与阵列化,并且可以同微电子器件一起集成化,具有广泛的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	易新建	华中科技大学光电子工程系	102	1261	21.0	29.0
2	陈四海	华中科技大学光电子工程系	46	459	12.0	18.0
3	孔令彬	中国地质大学机电工程系	23	170	8.0	12.0