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摘要:
简要介绍了当前国内外激光烧蚀法制备半导体纳米丝的研究现状.介绍了目前激光烧蚀法制备的实验装置及所采用的激光束参数.比较了不同实验结果中在纳米丝结构和生长方向等方面的差异,并分析了半导体纳米丝生长的VLS金属催化机理和氧化物辅助生长模型,我们认为Si-金属混合物作靶时金属催化作用对纳米丝的生长起主要作用,而在Si-氧化物混合物作靶时,氧化物辅助作用将占主导地位.
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文献信息
篇名 激光烧蚀法制备半导体纳米丝的研究进展
来源期刊 激光与红外 学科 工学
关键词 激光烧蚀 半导体 纳米丝
年,卷(期) 2002,(2) 所属期刊栏目 综述与评论
研究方向 页码范围 67-69
页数 3页 分类号 TB383
字数 3039字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-5078.2002.02.001
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 凌一鸣 东南大学电子工程系 18 233 8.0 15.0
2 吴旭峰 东南大学电子工程系 13 138 7.0 11.0
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研究主题发展历程
节点文献
激光烧蚀
半导体
纳米丝
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引文网络交叉学科
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期刊影响力
激光与红外
月刊
1001-5078
11-2436/TN
大16开
北京8511信箱《激光与红外》杂志社
2-312
1971
chi
出版文献量(篇)
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