激光致晶态Ge2Sb2Te5相变介质的光学常数

• 作者: 刘波 干福熹 阮昊
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: Ge2Sb2Te5 相变 光学常数
• 年，卷（期）: 2002,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 479-483
• 页数: 5页
• 分类号: TB383|TB34
• 字数: 2721字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2002.05.007

摘要

利用椭偏仪和光谱仪研究了结晶程度对Ge2Sb2Te5相变薄膜光学常数的影响.当初始化仪转速固定时,随激光功率的增加,折射率基本随之减小,消光系数逐渐增大,透过率逐渐减小;当激光功率固定时,随转速的增大,折射率也随之增大,消光系数随之减小,透过率逐渐增加.非晶态与晶态间的变换、薄膜微结构的变化(包括原子间键合状态的变化)以及薄膜内残余应力是影响Ge2Sb2Te5相变薄膜复数折射率的主要原因.测量了CD-RW(可擦重写光盘)中Ge2Sb2Te5薄膜非晶态和晶态的反射率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	干福熹	中国科学院上海光学精密机械研究所	288	2527	23.0	29.0
2	刘波	中国科学院上海光学精密机械研究所	266	2712	24.0	39.0
3	阮昊	中国科学院上海光学精密机械研究所	40	336	7.0	17.0