纳米晶钛薄膜的制备及结构分析

• 作者: 刘实 李依依 汪伟 王隆保 赵越 郝万立
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 纳米晶薄膜 直流磁控溅射 空心阴极离子镀
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 页码范围: 380-383,424
• 页数: 5页
• 分类号: O484.5
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.2002.04.024

摘要

采用磁控溅射和离子镀膜工艺在Mo基片上制备了具有不同晶粒尺寸的纯Ti薄膜,并利用X光衍射(XRD)、透射电镜(TEM)和扫描电镜(SEM)分析和观察了两类Ti膜的结构和形貌.实验结果显示:与溅射镀膜相比,离子镀膜的晶粒择优取向程度略低,Ti膜与基片结合较好;较高的基片温度有利于提高膜的致密程度,并降低膜的晶粒择优取向程序.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李依依	中国科学院金属研究所	85	1251	21.0	32.0
2	刘实	中国科学院金属研究所	38	295	10.0	15.0
3	王隆保	中国科学院金属研究所	28	282	10.0	15.0
4	赵越	中国科学院金属研究所	20	138	7.0	11.0
5	汪伟	中国科学院金属研究所	26	99	6.0	9.0
6	郝万立	中国科学院金属研究所	1	13	1.0	1.0